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2004.2.18--經濟日報-新芳乾式研磨技術臻奈米水準
新芳乾式研磨技術臻奈米水準
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新芳機械公司繼去年成立粉末高科技研究中心受到產官學界認同外，今年更以乾式研磨技術，研磨出達到個位數2.36 nm的奈米細度粉末，並經國科會南部貴重儀器中心以TEM顯微照相證實無誤，成為國內首家將研磨設備做到奈米產品應用的專業廠商。
該公司總經理張仁鴻表示，隨著生物科技的日新月異，客戶對於產品的細度要求愈來愈嚴苛，也讓國內製造研磨設備的廠商，莫不竭盡心力發展可使研磨物細微化的設備。如今，新芳機械已突破舊有研磨技術窠臼，領先同業研磨出達到個位數2.36 nm的奈米細度粉末。
張仁鴻指出，以往粉末細度解析，大多以光學顯微鏡（OM）或者掃描電鏡（SEM）分析，而新芳所研磨出的奈米級粉末，委託成大航太工程研究所中的噴霧與金屬粉末實驗室，透過國科會貴重儀器中心的TEM穿透顯微照相設備，將奈米化後的奈米粉體團聚現象，以特殊穿透儀完整做好粒徑量測，其中發現，有些物質經奈米化後測量不到所內含主成份，係因該成份已進入原子狀態，形成新微量元素，因而產生特殊的奈米材料功能，此即為奈米化後原材料特性的增益改變。
張仁鴻說，此次檢測的粉體包括遠紅外線陶瓷材料、二氧化鈦、二氧化鈣及珍珠粉，均是在一百萬倍電鏡下量測，所有數值全部經由該國家級實驗室量測核發，也證明新芳機械對於研磨設備的研發製造絕對是國際級水準。
【2004-02-18/經濟日報/41版/自動化及設備專輯】 |
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