新芳奈米科技特殊超微研粉機簡報(1101108日本nano tech 2022) 「奈米級特殊超微研粉機」以物理製程乾式研粉方式，進行粒子擠壓撞擊，粒徑顆粒數比率平均值〈D50〉可研磨至100nm以下，粒徑體積比率可依產業需求而定。研粉機採用特殊超硬合金製成，確保研磨過程中，無重金屬汙染成份進入材料，並配合液態氮氣體研磨，保護原成份及防止粉塵氣爆，符合行政院勞工衛生安全規範。

新芳奈米科技有限公司張仁鴻總經理取得具人體遠紅外線波段之材料微細化製備方法發明專利，發明第 I533886 號，專利權期間自2016年5月21日至2032年12月16日止，詳情請看以下中華民國專利證書、 專利公報、及發明說明書公告本。