新芳奈米科技特殊超微研粉機簡報(1101108日本nano tech 2022) 「奈米級特殊超微研粉機」以物理製程乾式研粉方式，進行粒子擠壓撞擊，粒徑顆粒數比率平均值〈D50〉可研磨至100nm以下，粒徑體積比率可依產業需求而定。研粉機採用特殊超硬合金製成，確保研磨過程中，無重金屬汙染成份進入材料，並配合液態氮氣體研磨，保護原成份及防止粉塵氣爆，符合行政院勞工衛生安全規範。

新芳奈米科技輻射除轉墊簡報(1101108日本nano tech 2022) 抗EMI「輻射除轉墊」，可吸收電磁波轉換成遠紅外線，廣泛應用於電腦桌墊、滑鼠墊、辦公桌墊等產品。